光電子微納制造工藝平台

光電子微納制造工藝平台

武漢光電國家實驗室(籌)公共實驗平台——光電子微納制造工藝平台位于光電國家實驗室E區,始建于2005年9月。2006年6月起,随着工藝及測試設備的搬入和調試,平台開始投入使用。平台使用總面積約1900多平方米,淨化等級最高為5級(百級),最低為8級(十萬級);其中百級間136平方米、千級間439平方米、萬級間639平方米、十萬級間463平方米。平台建有完善的動力、淨化空調及氣體保障系統。目前,共有設備135台(套),其中主設備36台(套),輔助設備99台(套),利用“985工程”二期建設資金所購設備總值近一億元,擁有“金屬有機化學氣相沉積系統(MOCVD)”2台、“電子束光刻系統(EBL)”、 “感應耦合離子刻蝕機(ICP-RIE)2台、“低壓化學氣相沉積(LPCVD)”、“等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)”、“磁控濺射機”等多台大型工藝設備,另有“微區Raman/PL系統”、“高分辨率X射線衍射儀”、“光學橢偏儀”等10台測試設備;平台可開展光電子材料與器件的制作及檢測工作。平台現有14位工藝工程師、動力工程師對設備進行日常管理、操作和維護。


 

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